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在半导体与精密光学镀膜工艺中,薄膜制备设备是实现基材表面均匀涂胶、成型镀膜的关键工艺设备,保障薄膜厚度一致性。旋转匀胶机依靠高速旋转离心力完成胶体均匀铺展,广泛应用于微纳加工与光刻工艺场景。熟悉设备各部件功能,可规范操作旋转匀胶机,保障涂胶工艺稳定达标。以下为设备各组成部件的功能特点。1、高速旋转主轴组件主轴为设备核心传动部件,承载基片并带动其高速运转。运行转速平稳可控,可根据工艺需求调节旋转速度...
查看更多2026-02-05
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