旋转匀胶机是微纳加工中用于在基片表面均匀涂覆光刻胶的关键设备，其成膜质量直接影响后续光刻工艺的精度。操作过程中的转速设定、环境控制及基片处理等因素均会影响胶层厚度与均匀性。因此，掌握旋转匀胶机正确操作方法，是获得稳定薄膜性能的前提；同时，规范执行旋转匀胶机正确操作方法，也能有效减少材料浪费和工艺返工。1、基片预处理：使用前需对硅片、玻璃片等基底进行清洗，常用丙酮、异丙醇超声去除有机污染物，再经去离...