在半导体制造工艺中，多功能掩膜版光刻机是实现高精度微结构图案转移的关键设备。正确操作这一精密仪器不仅能够确保高质量的产品输出，还能有效延长设备寿命。本文将详细介绍多功能掩膜版光刻机的正确使用步骤，帮助您掌握从准备到完成的每一个细节。一、准备工作1、环境检查与调整在开始操作之前，请确保实验室或生产车间的洁净度符合要求。通常情况下，光刻工艺需要在百级或更高级别的洁净室环境中进行。检查并调节环境温度和湿...