在芯片制造与微纳器件研发领域，光刻机常被比作“雕刻光线的刻刀”。而多功能掩膜版光刻机，则是一把能同时完成多种图案转移任务的“组合刀具”。它并非单一用途的专用设备，而是将掩膜版制作、直写曝光、套刻对准与灰度光刻等功能集成于同一平台，从而服务于从实验室原型验证到小批量生产的广泛场景。什么是多功能掩膜版光刻机？其核心原理与普通光刻机一致：通过光学系统将掩膜版上的图形缩小或等比例投影到涂有光刻胶的基片上。...