在芯片与微纳器件的制造链条中，光刻机承担着将设计图形“转印”到硅片上的任务。传统光刻机通常只适配单一分辨率的掩膜版，而多功能掩膜版光刻机则通过一套可调光学系统，在同一台设备内兼容多种掩膜版类型与曝光模式。其工作原理可概括为三个环节：光源调制、掩膜切换与焦面补偿。通常，光源部分采用可切换波长的紫外激光模块。通过控制干涉滤波片的角度，设备能在深紫外与中紫外波段之间快速切换，以适应不同厚度光刻胶的感光需...