Futurrex紫外负性光刻胶NR7-1000PNR9-1000PNR5-8000可在基本的水显影剂中显影的负性光刻胶特性厚度范围lt;0.1-120.0µm对波长小于380nm的灵敏度优于表面拓扑的线宽控制直侧壁适合任何膜厚能够在单次旋涂中涂覆100µm厚的膜由于应用了150°C的软烘烤

Futurrex紫外负性光刻胶NR7-1000P NR9-1000P NR5-8000

可在基本的水显影剂中显影的负性光刻胶


特性
厚度范围 lt;0.1-120.0 µm
对波长小于380nm的灵敏度
优于表面拓扑的线宽控制
直侧壁适合任何膜厚
能够在单次旋涂中涂覆100 µm厚的膜
由于应用了150°C的软烘烤，烘烤时间更短（对于厚膜至关重要）
出色的光速，可提高曝光量
有助于提高RIE中的功率密度，从而提高蚀刻速率和蚀刻产量
消除使用粘合促进剂
RIE /离子耐高温 厚度 湿法蚀刻 厚度
增强附着力
NR7-250P 0.2um-0.6um NR9-250P 0.2um-0.6um
NR7-1000P 0.7um-2.1um NR9-1000P 0.7um-2.1um

NR7-1500P 1.1um-3.1um NR9-1500P 1.1um-3.1um
NR7-3000P 2.1um-6.3um NR9-3000P 2.1um-6.3um
NR7-6000P 5.0um-12.2um NR9-6000P 5.0um-12.2um
NR5-8000 5.8um-100.0um NR9-8000P 6.0μm-100um
耐温性= 150°C 在低于120°C的处理温 耐温性= 100°C。
度下可在25°C剥离NR5和NR7系列抗蚀剂 NR9系列抗蚀剂具有增强的附着力
在25°C时易于剥离。
Futurrex NR5-8000，4.5：1 AR

抗蚀剂分辨率的示例
膜厚度：54µm
掩模尺寸：12µm线/间隔
曝光剂量：1100 mJ / cm 2。
焦点偏移：-15µm。
曝光工具：Ultratech步进土星
模型，i-line
另有：NR9G g和h线曝光用粘度增强 具有高粘附性适用于电镀及湿法蚀刻
NR71G g和h线曝光用于干法蚀刻中掩模应用并能作为隔层