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LSC-5000 (AD) 全自动兆声大基片湿法去胶系统

NANO-MASTER提供兆声单晶圆&掩模清洗(LSC)系统,用于的无损兆声清洗。可以适用于易受损的带图案或无图案的基片,包含带保护膜的掩模版。为了在确保不损伤基片的情况下达到化的清洗效果,兆声能量的密度必须保持在稍稍低于样片上任意位置上的损伤阈值。NANO-MASTER的技术确保了声波能量均匀分布到整个基片表面,通过分布能量的支持的清洗,同时保证在样片的损伤阈值范围内。

  • 产品型号:
  • 厂商性质:经销商
  • 更新时间:2022-05-10
  • 访  问  量:134
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产品详情

LSC是占地面积较小,并且很容易安装在空间有限的超净间中。该系列设备都具有出众的清洗能力,并可用于非常广泛的基片。

LSC-5000 (AD)全自动兆声大基片湿法去胶系统应用:

  • 光刻胶去除/剥离

  • 硅片

  • 蓝宝石片

  • 圆框架上的芯片

  • 显示面板

  • ITO涂覆的显示屏

  • 带保护膜的分划版

  • 掩模版空白部位

  • 掩模版接触部位

  • 带保护膜/不带保护膜的掩模版

LSC-5000(AD)全自动兆声大基片湿法去胶系统的特点:

  • 支持450mm直径的圆片或15"x15"方片

  • 带兆声、DI、刷子、热DI、高压DI、热氮、化学试剂滴胶臂的大腔体

  • 带化学试剂滴胶的刷子转速可调节

  • 带LABVIEW软件的PC全自动控制

  • 触摸屏用户界面

  • 机械手上下载片,带EFEM以及SMIF界面

  • 安全互锁及警报装置

  • 30"D x 26"W 的占地面积  

LSC-5000(AD)全自动兆声大基片湿法去胶系统选配项:

  • 化学试剂传输模块

  • Piranha溶液清洗                                       

  • 臭氧化DI水(20ppm的O3)

  • 氢化的DI水

  • 高压DI水

  • 热DI水

  • 溶剂和酸分离排放

  • IR红外加热

  • DI水循环机

  • 耐火立柜



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